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美光將于下月戰略重組,劃分四大核心部門

2025-04-21 1154

在人工智能浪潮推動下,高帶寬內存(HBM)正成為存儲巨頭的戰略要地。為加速追趕行業龍頭SK海力士,美光科技近日宣布啟動重大組織架構重組,并透露其下一代HBM4技術量產時間表,劍指2026年實現技術突破。bxAesmc

戰略重組:四大部門瞄準細分市場‌

美光將業務劃分為四大核心部門:bxAesmc

  • ‌云內存業務部門(CMBU)‌:聚焦超大規模云服務商(如微軟、AWS)的定制化HBM及存儲解決方案,直接負責HBM技術研發與商業化;
  • ‌核心數據中心業務部門(CDBU)‌:服務戴爾、慧與等OEM服務器客戶,滿足傳統數據中心需求;
  • ‌移動與客戶端業務部門(MCBU)‌及‌汽車與嵌入式業務部門(AEBU)‌:分別深耕消費電子與汽車智能化市場。

此次調整旨在強化對AI關鍵客戶的服務能力。據韓媒etnews分析,CMBU的設立凸顯美光對云巨頭定制需求的重視,而CDBU與CMBU的分工則精準切分超大規模客戶與OEM客戶的差異化需求。bxAesmc

‌Fluxless鍵合技術成HBM4關鍵‌

為突破當前HBM堆疊技術瓶頸,美光正加速推進下一代“Fluxless無焊劑鍵合”技術‌。根據業內人士近日透露,美光公司將從今年第二季度開始與各大后處理設備公司合作,對無助焊劑設備進行質量測試。bxAesmc

據了解,目前美光公司正在采用NCF(非導電粘合膜)工藝來制造HBM。該方法涉及將NCF材料插入每個DRAM堆棧,再使用TC粘合機通過熱壓縮將其連接起來其原理是NCF受熱熔化,連接DRAM之間的凸塊,固定整個芯片。bxAesmc

不過,現行NCF工藝在12層以上HBM3E堆疊中面臨材料填充不均、邊緣溢膠等問題,難以滿足HBM4(預計12-16層)更高密度需求。而根據制造商設備的不同,Fluxless技術通過等離子體或甲酸等不同處理方式替代傳統助焊劑,直接去除凸塊氧化層,可提升堆疊可靠性與良率。bxAesmc

‌力圖縮小與SK海力士差距‌

如今,美光已與核心設備商達成深度合作。據The Elec報道,韓美半導體將向美光交付約50臺熱壓TC鍵合機,遠超2024年的交付量,為美光的HBM3E擴產鋪路;下一代HBM4產線設備采購與測試同步推進,目標2026年量產,2027-2028年推出更先進的HBM4E。bxAesmc

‌目前,美光12層HBM3E已向英偉達B300芯片供貨,但市場份額仍落后于SK海力士。據韓媒分析,此次重組與技術迭代雙管齊下,意在通過‌“定制化服務+前沿技術”組合拳爭奪AI芯片巨頭訂單。而三星電子同期啟動的無焊劑技術測試,則預示HBM4賽道將迎來更激烈的技術博弈。bxAesmc

‌美光CEO Sanjay Mehrotra表示,新架構將于2025年5月生效,同期啟用新財務報告體系。隨著HBM在AI服務器中的滲透率持續攀升(TrendForce統計,2023年HBM占DRAM總產值的只有8%,2024年激增至21%,到2025年占比預計將超過30%),美光此番戰略調整或為其在萬億級AI存儲市場中贏得關鍵席位。bxAesmc

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